Ce:LYSO閃爍體晶體案例(一)最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>| 品名 | 規(guī)格/mm | 備注 |
| Ce:LYSO | 2(0,-0.02)×2(0,-0.02)×7(0,+0.02)mm | 崩邊≤0.2mm（少于3個） |
?加工指標
毛坯片尺寸：2.14*2.14*7.22 mm
成品尺寸：2(0,-0.02)×2(0,-0.02)×7(0,+0.02)mm
拋光： 六面拋光，60/40，
崩邊≤0.2mm（少于3個），垂直度±6’。
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Ce:LYSO閃爍體晶體案例(一)最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
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Ce:YAG閃爍體案例（四）– Φ10*0.5mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>| 品名 | 規(guī)格/mm | 備注 |
| Ce: YAG | Φ10*0.5mm | / |
加工指標
方向公差： 一般無方向要求
厚度/直徑公差： ±0.10 mm
表面光潔度： 40/20
平行度： 1ˊ
垂直度： 30ˊ
通光孔徑：>90%
倒邊：<0.2×45°
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Ce:YAG閃爍體案例（四）– Φ10*0.5mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
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Ce:YAG閃爍體案例（三） — dia70*0.1mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>| 品名 | 規(guī)格/mm | 備注 |
| Ce:YAG | dia70*0.1mm | 雙拋，單面鍍鋁（10nm） |
加工指標
方向公差： 一般無方向要求
表面光潔度： 40/20
平行度： 1ˊ
垂直度： 30ˊ
通光孔徑： >90%
倒邊： <0.2×45°
雙拋，單面鍍鋁，表面平坦度＜200nm
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Ce:YAG閃爍體案例（三） — dia70*0.1mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
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Ce:YAG閃爍體案例（二） — Φ12.7*2mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>| 品名 | 規(guī)格/mm | 要求 |
| Ce:YAG | Φ12.7*2mm | 雙面拋光+一面刻蝕 |
加工指標
尺寸：Φ12.7(+0/-0.1)*2(±0.1)mm
拋光指標：40/20
方向公差：一般無方向要求
厚度/直徑公差：±0.10 mm
平行度：1ˊ
垂直度：30ˊ
通光孔徑：>90%
倒邊：<0.2×45°
圖片
Ce:YAG閃爍體案例（二） — Φ12.7*2mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>Ce:GAGG閃爍體案例（一） — 15*15*7mm Read More ?
Ce:GAGG閃爍體案例（一） — 15*15*7mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>| 品名 | 規(guī)格/mm | 拋光指標 |
| Ce:GAGG | 15*15*7 | 40/20 |
加工指標
拋光指標：40/20
方向公差：一般無方向要求
厚度/直徑公差：±0.10 mm
平行度：1ˊ
垂直度：30ˊ
通光孔徑：>90%
倒邊：<0.2×45°
發(fā)貨圖片
Ce:GAGG閃爍體案例（一） — 15*15*7mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>Ce:YAG閃爍體案例（一） — φ50*0.1mm/φ30*0.03mm Read More ?
Ce:YAG閃爍體案例（一） — φ50*0.1mm/φ30*0.03mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
]]>| 品名 | 規(guī)格/mm | 拋光指標 |
| Ce:YAG | φ50*0.1mm | 單面鍍鋁(10nm) |
| Ce:YAG | φ50*0.1mm | 單面鍍鋁(20nm) |
| Ce:YAG | φ50*0.1mm | 單面鍍鈦(10nm) |
| Ce:YAG | φ50*0.1mm | 不鍍膜 |
| Ce:YAG | φ30*0.03mm | 單面鍍鋁(10nm) |
| Ce:YAG | φ30*0.03mm | 不鍍膜 |
加工指標
拋光：雙拋
方向公差：一般無方向要求
厚度/直徑公差：±0.10 mm
平行度：1ˊ
垂直度：30ˊ
通光孔徑：>90%
倒邊：<0.2×45°
平坦度：＜200nm
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Ce:YAG閃爍體案例（一） — φ50*0.1mm/φ30*0.03mm最先出現(xiàn)在Scintillator-crylink。
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